中芯国际14nm良率追平台积电-展会动态-半导体展会-2021深圳国际半导体封装测试技术大会暨展览会(官方网站)
2021年11月17-21日   深圳会展中心(3号馆)
距展会开幕还有

3月10日,从供应链获悉,中芯国际14nm制程工艺产品良率已追平台积电同等工艺,水准达约90%-95%。


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与此同时,中芯国际各制程产能满载,部分成熟工艺订单已排至2022年。


月初有消息称,中芯国际14nm及以上(14nm及28nm等成熟工艺)的设备供应获得许可。


在硬实力方面,中芯国际联席CEO梁孟松此前曾披露,中芯国际的28nm、14nm、12nm、N+1等技术均已进入规模量产,7nm技术开发已经完成,今年4月可以进入风险量产,5nm、3nm最关键也是最艰巨的8大项技术也已经有序展开,只等EUV极紫外光刻机到来,就可以进入全面开发阶段。


去年7月,中芯国际正式登陆科创板,发行总股本为71.3642亿股,上市募集资金中40%用于12英寸芯片SN1项目,20%作为先进及成熟工艺研发项目的储备资金,40%作为补充流动资金。


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值得一提的是,3月3日中芯国际发布公告称,与荷兰阿斯麦(ASML)达成12亿美元的产品购买单,根据ASML后续公告,这笔钱用于购买除EUV光刻机之外的设备。中芯国际已获得部分美国供应许可,主要涵盖成熟工艺用半导体设备等。官方还表示,他们会尽最大努力,持续携手全球产业链伙伴,保证公司生产连续性及扩产规划不受影响。

来源:半导体技术天地



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